| 研究課題名 | 2波長X線ビーム励起-全反射蛍光X線分析装置の開発とその分析性能の評価 |
| レコードタイプ | 研究実績報告 |
| 報告年度 | 2000 |
| 研究期間 | 1999-2000 |
| 研究課題番号 | 11650828 |
| 研究代表者 | 辻 幸一 (ツジ コウイチ) 東北大学・金属材料研究所・助手 |
| 研究代表者番号 | 30241566 |
| 研究機関 | 東北大学 研究機関番号：11301 |
| 研究分担者 | 松田 秀幸
(ﾏﾂﾀﾞ ﾋﾃﾞﾕｷ)
東北大学・金属材料研究所.
助手
(00181735)
我妻 和明 (ﾜｶﾞﾂﾏ ｶｽﾞｱｷ) 東北大学・金属材料研究所. 教授 (30158597) |
| 研究種目 | 基盤研究(C) 研究種目コード：320 |
| 審査区分 | 一般 区分コード：03 |
| 研究分野[2] | 工業分析化学 研究分野コード：465 |
| キーワード | 蛍光X線分析 / 全反射X線 / 表面分析 / 薄膜分析 / 非破壊分析 |
| 研究概要 | 平成7-8年度科研費基盤研究A(07555260)により設計・購入した大型ゴニオメーターを改造して「2波長X線ビーム励起-全反射X線分析装置」を新たに開発した。このゴニオメーターをX線発生装置(理学電機:回転対陰極型X線発生装置RU-200)のテーブルに設置し、ゴニオメーター全体を傾斜(傾斜角φ)させることにより回転対陰極型X線発生装置からの一次X線の入射角を制御した。さらに、このゴニオメーターの回転アーム(傾斜角χ)に封入式X線管を取り付けた。封入式X線管の試料への入射角χは、このアームを移動しX線管自身を動かすことにより制御した。以上の装置構成により2波長X線ビーム励起-全反射X線分析が可能となった。このゴニオメーターを使用することにより、回転対陰極型X線発生装置からのX線ビームと封入式X線管からのX線ビームとでなす角度も自由に変えることができる。研究期間中、海外出張が数回入ったこともあり、この装置の組み立てには1年半程度を要した。よって、研究期間内に分析性能の評価を充分に行うことはできなかったが、2つのX線ビーム励起により蛍光X線強度が増大することが確かめられた。研究期間終了後に本格的な分析性能の評価にむけた実験を行う予定である。 また、この研究と並行して斜出射X線測定型のEPMA分析を行うことを提案した。(斜出射電子線プローブマイクロX線分析による異物の分析法、特許出願2000-22205)斜出射X線測定により表面敏感な分析が可能となる。よって、EPMAが有する局所分析という特徴と併せると、表面・局所分析が可能となり、微粒子分析や薄膜分析に応用できることが明らかとなった。この研究は極めてユニークかつ独創的な研究であるので、これについても研究成果報告書の中で紹介することとした。 |
| 発表文献 | Ｋ．Ｔｓｕｊｉ：
"Ｇｌａｎｃｉｎｇ−Ｉｎｃｉｄｅｎｃｅ ａｎｄ Ｇｌａｎｃｉｎｇ−Ｔａｋｅｏｆｆ Ｘ−Ｒａｙ Ｆｌｕｏｒｅｓｃｅｎｃｅ Ａｎａｌｙｓｉｓ ｏｆ Ｎｉ−ＧａＡｓ Ｉｎｔｅｒｆａｃｅ−Ｒｅａｃｔｉｏｎｓ"
Ｘ−Ｒａｙ Ｓｐｅｃｔｒｏｍ． ２９.
155-160
(2000)
Ｙ．Ｈａｓｅｇａｗａ： "Ｘ−Ｒａｙ Ｓｏｕｒｃｅ Ｃｏｍｂｉｎｅｄ Ｕｌｔｒａｈｉｇｈ−Ｖａｃｕｕｍ Ｓｃａｎｎｉｎｇ Ｔｕｎｎｅｌｉｎｇ Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｙ ｆｏｒ Ｅｌｅｍｅｎｔａｌ Ａｎａｌｙｓｉｓ" Ｊ．Ｖａｃ．Ｓｃｉ．Ｔｅｃｈ．Ｂ １８. 2676-2680 (2000) 辻幸一： "斜出射Ｘ線測定による微小領域の表面分析と微粒子分析" まてりあ（日本金属学会 編） ３９. 586-593 (2000) 辻幸一： "斜出射Ｘ線測定型の電子線プローブマイクロアナリシス" Ｘ線分析の進歩（アグネ技術センター編） ３２集（印刷中）. (2001) Ｋ．Ｔｓｕｊｉ： "Ｇｒａｚｉｎｇ−Ｅｘｉｔ Ｘ−Ｒａｙ Ｓｐｅｃｔｒｏｍｅｔｒｙ ｆｏｒ Ｓｕｒｆａｃｅ ａｎｄ Ｔｈｉｎ−Ｆｉｌｍ Ａｎａｌｙｓｉｓ" Ａｎａｌ．Ｓｃｉ． １７. 145-148 (2001) Ｋ．Ｔｓｕｊｉ： "Ｄｅｔｅｃｔｉｏｎ Ｌｉｍｉｔ ｏｆ Ｇｒａｚｉｎｇ−Ｅｘｉｔ Ｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｐｒｏｂｅ Ｍｉｃｒｏａｎａｌｙｓｉｓ（ＧＥ−ＥＰＭＡ） ｆｏｒ Ｐａｒｔｉｃｌｅｓ Ａｎａｌｙｓｉｓ" Ｍｉｋｒｏｃｈｉｍ．Ａｃｔａ． １３２. 357-360 (2000) |